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J-GLOBAL ID：200903039971556799

液体噴射記録ヘッド用基体、その製造方法および液体噴射記録ヘッドならびに液体噴射記録装置

Inventor： 寺井 晴彦 ,  柴田 誠 ,  小室 博和
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992277356
Publication number (International publication number)：1994055737
Application date： Oct. 15, 1992
Publication date： Mar. 01, 1994
Summary：

【要約】【目的】良好な吐出特性に必要な放熱性を有し、耐久性に優れた液体噴射記録ヘッド用基体8を提供する。【構成】液体噴射記録ヘッド用基体8に使用される各種の層をバイアスECRプラズマCVD法で形成する。

Claim (excerpt)：

支持体と、前記支持体上に設けられ記録用の液体を吐出するために利用される熱エネルギーを発生する発熱抵抗体と、所定の間隔をおいて前記発熱抵抗体に接続された一対の配線電極とを少なくとも有する液体噴射記録ヘッド用基体であって、バイアスECRプラズマCVD法によって形成された膜で構成された層を有することを特徴とする液体噴射記録ヘッド用基体。

IPC (2)：

B41J 2/05 ,  B41J 2/16

FI (2)：

B41J 3/04 103 B ,  B41J 3/04 103 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭64-055256
  
• 特開昭63-273323
  
• 特開平2-250976