照明装置、位置計測装置、並びに露光装置及び露光方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀正武 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000160904
Publication number (International publication number)：2001338867
Application date： May. 30, 2000
Publication date： Dec. 07, 2001
Summary：

【要約】【課題】主として基板マーク及びマスクマークの位置情報を高精度に計測することができる位置計測装置を提供し、更にマスクに形成されたパターンを基板の所定位置に精度良く転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】反射プリズム43、46を有する部分投影光学系9aを介してプレート10に形成された基板マーク11の位置情報を計測する位置計測装置において、光源部61から射出された照明光の偏光状態を偏光板63によって可変して照明光の反射プリズム43、46における反射率を高く設定し、この照明光を部分投影光学系9a中の反射プリズム43、46に対して斜入射となるように導き、基板マーク11からのビームを部分投影光学系9aを介して撮像装置68で撮像し、撮像装置68の結果に対して画像処理部69によって画像処理を施し、基板マーク11の位置情報を計測する。

Claim (excerpt)：

発光部を有する光源と、該光源の前記発光部から射出された光を集光して前記発光部の像を形成する光学系と、前記発光部の像が形成される位置の近傍に入射端が位置決めされた光導波手段とを備え、該光導波手段の射出端からの光を照明光とする照明装置であって、前記発光部からの光を反射して前記光学系へ導く凹面鏡を備え、前記凹面鏡からの反射光に基づいて、前記発光部の像が形成される位置に前記発光部のフーリエ変換像を形成することを特徴とする照明装置。

IPC (7)：

H01L 21/027 , G01B 11/00 , G02B 5/08 , G02B 5/10 , G03F 7/20 501 , G03F 7/22 , G03F 9/00

FI (8)：

G01B 11/00 H , G02B 5/08 A , G02B 5/10 , G03F 7/20 501 , G03F 7/22 H , G03F 9/00 H , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 525 F

F-Term (64)：

2F065AA03 , 2F065AA07 , 2F065BB03 , 2F065BB27 , 2F065CC20 , 2F065DD00 , 2F065DD02 , 2F065FF04 , 2F065FF49 , 2F065FF55 , 2F065GG02 , 2F065GG24 , 2F065HH13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ09 , 2F065JJ26 , 2F065LL00 , 2F065LL01 , 2F065LL12 , 2F065LL19 , 2F065LL26 , 2F065LL30 , 2F065LL33 , 2F065LL46 , 2F065MM03 , 2F065PP12 , 2F065PP23 , 2F065QQ31 , 2H042DA01 , 2H042DA12 , 2H042DD05 , 2H042DE04 , 2H097AA03 , 2H097AB09 , 2H097BA10 , 2H097EA01 , 2H097KA03 , 2H097KA12 , 2H097KA13 , 2H097KA20 , 2H097KA29 , 2H097LA10 , 2H097LA12 , 5F046BA05 , 5F046CA02 , 5F046CB02 , 5F046CB03 , 5F046CB04 , 5F046CB05 , 5F046CB06 , 5F046CB07 , 5F046CB10 , 5F046CB12 , 5F046CB22 , 5F046CB25 , 5F046EB01 , 5F046EB02 , 5F046ED01 , 5F046FA03 , 5F046FA10 , 5F046FB08 , 5F046FB10 , 5F046FB12 , 5F046FB14

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