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J-GLOBAL ID：200903040002427254
ケイ素系ハイブリッド材料の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
藤本 博光 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994243184
Publication number (International publication number)：1996104710
Application date： Oct. 06, 1994
Publication date： Apr. 23, 1996
Summary：
【要約】【目的】 末端にアルコキシシリル基を有したビニル重合体を合成し、これを加水分解、縮重合させることにより得られるケイ素系ハイブリッド材料及びその製造方法を提供することにある。【構成】 分子内にイソシアナート基を有するアルコキシシラン類とイソシアナート基と反応する官能基を有するアゾ系ラジカル開始剤とから、生成したアルコキシシリル基末端アゾラジカル開始剤を用いて、ビニル基含有単量体をラジカル重合させ、アルコキシシリル基末端ビニル重合体を得、それを加水分解、縮重合してケイ素系ハイブリッド材料を製造する。【効果】 シロキサン結合により三次元的に架橋したケイ素系ハイブリッド材料を低コスト、且つ簡便に得ることができる。
Claim (excerpt)：
ビニル基含有単量体を重合するにあたり、分子内に少なくとも一個のイソシアナート基を有するアルコキシシラン類とイソシアナート基に反応する官能基を有するアゾ系ラジカル開始剤との共存下、ビニル基含有単量体をラジカル重合させてアルコキシシリル基末端ビニル重合体を得、次いで該ビニル重合体をゾルゲル法による加水分解/縮重合を行うことを特徴とするケイ素系ハイブリッド材料の製造方法。
IPC (2)：
C08F 8/42 MHU
, C08F 4/04 MEG
