Pat

J-GLOBAL ID：200903040022250598

水処理方法及び装置

Inventor： 加藤 康弘 ,  本山 信行 ,  高橋 龍太郎
Applicant, Patent owner： 富士電機株式会社
Agent (1)： 篠部 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998295708
Publication number (International publication number)：2000117274
Application date： Oct. 16, 1998
Publication date： Apr. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】反応槽内のCT値を速やかに制御して被処理水中の臭素酸の生成量を基準値以下に抑制する水処理方法および水処理装置を得る。【解決手段】接触槽と、滞留槽のそれぞれの内部を流れる被処理水中の溶存オゾン濃度を監視して被処理水の槽内溶存オゾン濃度Cと被処理水の槽内滞留時間Tの積であるCT値の総和を常時計算し、CT値の総和が予め設定された範囲を超えた際に、溶存オゾン分解装置を佐藤させ接触槽と滞留槽のいずれか一つの槽内を流れる被処理水中の溶存オゾンを分解する。

Claim (excerpt)：

被処理水にオゾンガスを導入して浄化処理を行う水処理方法において、被処理水とオゾンガスを接触,混合する接触槽と、被処理水中に溶解したオゾンと有機物との反応時間を確保する滞留槽のそれぞれの内部を流れる被処理水中の溶存オゾン濃度を監視して被処理水の槽内溶存オゾン濃度Cと被処理水の槽内滞留時間Tの積であるCT値の総和を常時計算し、CT値の総和が予め設定された範囲を超えた際に、溶存オゾン分解装置を作動させ接触槽と滞留槽のいずれか一つの槽内を流れる被処理水中の溶存オゾンを分解することを特徴とする水処理方法。

IPC (8)：

C02F 1/78 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/58

FI (8)：

C02F 1/78 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 C ,  C02F 1/50 531 R ,  C02F 1/50 540 A ,  C02F 1/50 550 L ,  C02F 1/58 H

F-Term (30)：

4D037AA01 ,  4D037AB02 ,  4D037AB03 ,  4D037AB04 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037BB02 ,  4D037CA12 ,  4D038AA01 ,  4D038AB04 ,  4D038AB14 ,  4D038AB27 ,  4D038BA02 ,  4D038BA04 ,  4D038BA06 ,  4D038BB07 ,  4D038BB16 ,  4D050AA01 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050AB11 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BC09 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA07 ,  4D050CA20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 高度浄水処理システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-149967   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開昭59-039384