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J-GLOBAL ID:200903040030846378
導電性金属薄膜のプラズマ製膜装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
伊藤 研一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000186581
Publication number (International publication number):2002004056
Application date: Jun. 21, 2000
Publication date: Jan. 09, 2002
Summary:
【要約】【課題】小型の陰電極を使用して可撓性樹脂シート上にほぼ均一な厚さの導電性金属薄膜を効率的に製膜することができる導電性金属薄膜のプラズマ製膜装置を提供する。装置自体を小型化して低コスト化することができる導電性金属薄膜のプラズマ製膜装置を提供する。【解決手段】反応容器内に所定の間隔をおいて相対配置された陽電極及び陰電極と、反応容器内に金属化合物ガスを導入する導入部と、反応容器内を真空吸引する真空吸引装置と、揚電極及び陰電極間に直流高電圧を印加してグロー放電を発生させる直流電源装置とからなるプラズマ製膜装置を構成する。陰電極には所定の幅で所定の間隔をおいて一対の溝を設け、一方の溝から送入された可撓性樹脂シートを他方の溝から送出して陰電極上の負グロー層領域内にて可撓性樹脂シートを走行させながら表面に可能に導電性金属薄膜を製膜可能にする。
Claim (excerpt):
反応容器内に所定の間隔をおいて相対配置された陽電極及び陰電極と、反応容器内に金属化合物ガスを導入する導入部と、反応容器内を真空吸引する真空吸引装置と、揚電極及び陰電極間に直流高電圧を印加してグロー放電を発生させる直流電源装置とからなるプラズマ製膜装置において、陰電極には所定の幅で所定の間隔をおいて一対の溝を設け、一方の溝から送入された可撓性樹脂シートを他方の溝から送出して陰電極上の負グロー層領域内にて可撓性樹脂シートを走行させながら表面に可能に導電性金属薄膜を製膜可能にした導電性金属薄膜のプラズマ製膜装置。
IPC (4):
C23C 16/503
, C23C 16/06
, H01B 13/00 503
, H05H 1/46
FI (4):
C23C 16/503
, C23C 16/06
, H01B 13/00 503 B
, H05H 1/46 M
F-Term (9):
4K030AA11
, 4K030BA01
, 4K030CA07
, 4K030CA17
, 4K030FA03
, 4K030GA14
, 4K030KA15
, 5G323BB03
, 5G323BB06
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