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J-GLOBAL ID:200903040070806816
ガス配管回路の制御装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
志賀 正武 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991291773
Publication number (International publication number):1993190460
Application date: Nov. 07, 1991
Publication date: Jul. 30, 1993
Summary:
【要約】【構成】 ガス供給装置20の各バルブ21の開閉装置22に取り付け可能な計16基の端子台30と、制御装置10に操作の指示を出すための操作盤40と、操作盤40からの指示に基づいて端子台30に適切な電気信号を発信する中央演算処理装置50と、端子台30と操作盤40から発信された電気信号を中央演算処理装置50に入力する出入力装置60とで構成されている。【効果】 一台で3っつの配管回路を制御することが出来、それぞれに専用の制御装置を設ける必要が無くなってガス供給装置20の製造コストを低減することが出来る。
Claim (excerpt):
半導体製造装置の雰囲気となるガスを供給する複数種のガス配管回路の内のひとつに取り付けられて、このガス配管回路中の残存ガスをパージするためにバルブの開閉を制御するガス配管回路の制御装置であって、操作盤からの指示及び前記各バルブに設けられた端子台からのバルブの開閉に対応するフィードバック信号が入力される入力手段と、前記操作盤からの指示及び端子台からのフィードバック信号に基づいて各配管回路の各バルブの開閉を決める操作手段と、この操作手段により決められた各バルブの開閉信号を出力する出力手段とを備え、操作手段は前記複数種のガス配管回路に対応することを特徴とするガス配管回路の制御装置。
IPC (3):
H01L 21/205
, G05D 7/06
, G05D 16/20
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