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J-GLOBAL ID：200903040078234064

粒子線照射システム

Inventor： 松田 浩二 ,  中山 尚英
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (2)： 作田 康夫 ,  井上 学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004331325
Publication number (International publication number)：2006145213
Application date： Nov. 16, 2004
Publication date： Jun. 08, 2006
Summary：

【課題】 ビーム出射停止信号が出力されてから、加速器からの荷電粒子ビームの出射が停止されるまでに時間を要する場合であっても、照射対象の線量分布をより均一化する。【解決手段】 シンクロトロン12と、走査電磁石5A,5Bを有し、シンクロトロン12から出射されたイオンビームを出力する照射装置15と、照射装置15からのイオンビームの出力をビーム出射停止信号に基づいて停止させ、イオンビームの出力を停止した状態で、走査電磁石5A,5Bを制御することによりイオンビームの照射位置を変更させ、この変更後に、照射装置15からのイオンビームの出力を開始させ、ビーム出射停止信号を起点とした積算照射量の増分が、予め記憶された設定照射量に達したことに基づいて次のビームの出射停止信号を出力する制御装置とを備える。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

荷電粒子ビームを出射する加速器と、 荷電粒子ビーム走査装置を有し、前記加速器から出射された荷電粒子ビームを照射対象の照射位置に照射する照射装置と、 前記照射位置への前記荷電粒子ビームの照射量を計測する照射量検出装置と、 前記照射量検出装置で計測された前記照射量を入力し、第2の前記照射位置の1つ前の第1の前記照射位置における、ビーム出射停止信号出力後の第1の前記照射量と、前記第2の照射位置への第2の前記照射量との積算量が設定照射量に達したとき、前記第2の照射位置に照射する前記荷電粒子ビームの出射を停止させるビーム出射停止信号を出力する制御装置とを備えたことを特徴とする粒子線照射システム。

IPC (3)：

G21K 5/04 ,  A61N 5/10 ,  H05H 13/04

FI (7)：

G21K5/04 C ,  G21K5/04 A ,  G21K5/04 D ,  G21K5/04 S ,  A61N5/10 H ,  H05H13/04 M ,  H05H13/04 N

F-Term (18)：

2G085AA13 ,  2G085BA02 ,  2G085BA11 ,  2G085BA13 ,  2G085CA02 ,  2G085CA04 ,  2G085CA22 ,  2G085CA26 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE03 ,  4C082AG02 ,  4C082AG07 ,  4C082AG09 ,  4C082AG52 ,  4C082AN05 ,  4C082AP02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特許第2833602号公報(図1等)