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J-GLOBAL ID：200903040085041700

窒化クロム膜被覆基体とその製造方法

Inventor： 西山 哲 ,  緒方 潔
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社
Agent (1)： 野河 信太郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994220020
Publication number (International publication number)：1996081755
Application date： Sep. 14, 1994
Publication date： Mar. 26, 1996
Summary：

【要約】【目的】 実用上充分な耐摩耗性を発揮する硬度と靱性との両方に優れ、さらに耐食性を向上させた窒化クロム膜を被覆した基体と、当該窒化クロム膜を密着性良く基体上に形成させることができる窒化クロム膜被服基体の製造方法を提供することを目的としている。【構成】 窒化クロム(CrN)膜で被覆されている基体であって、前記窒化クロム膜が、2θの回折角として少なくとも37.6°,43.8°,63.6°の3つの回折角よりX線回折ピークを有する膜である窒化クロム膜被覆基体。

Claim (excerpt)：

窒化クロム(CrN)膜で被覆されている基体であって、前記窒化クロム膜が、2θの回折角として少なくとも37.6°,43.8°,63.6°の3つの回折角よりX線回折ピークを有する膜であることを特徴とする窒化クロム膜被覆基体。

IPC (4)：

C23C 14/06 ,  C01B 21/06 ,  C01G 37/00 ,  C23C 14/32