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J-GLOBAL ID：200903040126223860

質量分析装置

Inventor： 河藤 栄三 ,  山口 真一
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 小林 良平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002321978
Publication number (International publication number)：2004158267
Application date： Nov. 06, 2002
Publication date： Jun. 03, 2004
Summary：

【課題】イオン保持部に一旦各種イオンを集積・保持した後に質量分析部へと導入する質量分析装置で、質量スペクトルのピークの分離性能を向上する。【解決手段】イオントラップ4内でのイオンの保持性能を上げるために利用されるクーリングガスのガス配管48中に高速開閉が可能なバルブ47を介挿し、制御部7はイオン導入時とイオン排出時にはバルブ47を閉じ、クーリング動作時のみバルブ47を開く。それによって、クーリング動作時にはガス分子との衝突によりイオンの軌道が収束して確実にイオン捕捉空間44に保持される一方、イオン導入時にはガス分子の密度が下がってイオンが入り込み易くなり、イオン排出時にはイオンの飛び出しの初期エネルギーが奪われずその方向も揃う。そのため、イオンの質量分離が適切に行われてピーク分離性能が向上するとともに分析感度も向上する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

イオン発生源と質量分析部との間に、イオンを一時的に集積して保持する、又は更に保持しつつ開裂させるためのイオン保持部を設け、そこで保持しておいた又は開裂させたイオンを排出して前記質量分析部へと導入する質量分析装置において、 a)外部から前記イオン保持部に供給するガスの流量を高速で調節可能な流量調節手段と、 b)前記イオン保持部に対する、イオンの導入、イオンの保持や開裂、イオンの排出等の各動作モードに応じて前記イオン保持部内のガス圧を適切に設定するように、前記流量調節手段を制御する制御手段と、 を備えることを特徴とする質量分析装置。

IPC (4)：

H01J49/42 ,  G01N27/62 ,  H01J49/10 ,  H01J49/40

FI (6)：

H01J49/42 ,  G01N27/62 G ,  G01N27/62 K ,  G01N27/62 L ,  H01J49/10 ,  H01J49/40

F-Term (7)：

5C038GG08 ,  5C038GH02 ,  5C038GH08 ,  5C038GH13 ,  5C038GH15 ,  5C038JJ06 ,  5C038JJ07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭61-256557
  
• 質量分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-123686   Applicant：株式会社日立製作所