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J-GLOBAL ID：200903040140288923
ウエーハ表面検査装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991173899
Publication number (International publication number)：1993018901
Application date： Jul. 15, 1991
Publication date： Jan. 26, 1993
Summary：
【要約】【目的】 異物の大きさやその位置を検出するばかりでなく、その異物がエピタキシャル工程で発生したものかどうかも判定可能とする。【構成】 ウェーハ表面に第1のレーザ光を照射する第1のレーザー照射手段1と、第1のレーザ光をウェーハ表面に照射したことによるウェーハ表面からの散乱光に基づいてウェーハ表面上の異物の大きさ及び位置を検出する異物検出手段3,4と、検出された異物に対して第1のレーザ光とは異なる第2のレーザ光をパレスとして照射する第2のレーザ照射手段5と、第2のレーザ光を照射したことにより誘起される、異物からの散乱光に基づいて異物を同定する異物同定手段6,7とを備えていることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
ウェーハ表面に第1のレーザ光を照射する第1のレーザー照射手段と、前記第1のレーザ光をウェーハ表面に照射したことによるウェーハ表面からの散乱光に基づいてウェーハ表面上の異物の大きさ及び位置を検出する異物検出手段と、検出された異物に対して前記第1のレーザ光とは異なる第2のレーザ光をパルスとして照射する第2のレーザ照射手段と、前記第2のレーザ光を照射したことにより誘起される、前記異物からの散乱光に基づいて前記異物を同定する異物同定手段とを備えていることを特徴とするウェーハ表面検査装置。
IPC (3)：
G01N 21/88
, G01B 11/30
, H01L 21/66
