Pat
J-GLOBAL ID:200903040187380232
微粒子、微粒子の製造方法、及び製造装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 石田 悟
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003421509
Publication number (International publication number):2005177596
Application date: Dec. 18, 2003
Publication date: Jul. 07, 2005
Summary:
【課題】 光破砕によって物質を効率良く微粒子化することが可能な微粒子の製造方法、製造装置、及び微粒子を提供する。【解決手段】 溶媒である水4、及び物質の原料粒子5からなる被処理液2を収容する処理チャンバ3と、被処理液2に微粒子化のためのレーザ光を照射するレーザ光源10と、微粒子の凝集を防止するための超音波を照射する超音波振動子20と、レーザ光源10によるレーザ光照射、及び超音波振動子20による超音波照射を同時に行うように制御する制御装置15とによって製造装置1Aを構成する。また、マイクロフォン30及び振動振幅測定装置35によって処理チャンバ3の振動振幅をモニタし、超音波の周波数を共鳴振動周波数に設定する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
被処理液の溶媒中の物質を光破砕して、その物質の微粒子を製造する製造方法であって、
前記被処理液に対して所定波長のレーザ光を照射することによって、前記溶媒中にある前記物質を微粒子化すると同時に、微粒子同士の凝集を防止するための超音波を前記被処理液に照射することを特徴とする微粒子の製造方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (11):
4G075AA27
, 4G075BB08
, 4G075BB10
, 4G075CA03
, 4G075CA23
, 4G075CA36
, 4G075CA57
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EB01
, 4G075EC11
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
有機化合物の微粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-292244
Applicant:大日本インキ化学工業株式会社
Cited by examiner (3)
-
有機化合物の微粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-292244
Applicant:大日本インキ化学工業株式会社
-
微粒子分散塗布液
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-073774
Applicant:セントラル硝子株式会社
-
液体処理方法および液体処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-318199
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
Return to Previous Page