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J-GLOBAL ID:200903040199863352

投影光学系および露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 井上 義雄 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000148489
Publication number (International publication number):2000353661
Application date: May. 19, 2000
Publication date: Dec. 19, 2000
Summary:
【要約】【課題】 半導体製造工程における装置間のディストーションマッチングエラーを減らすことのできる投影光学系およびディストーションの制御方法を提案する。【解決手段】 第1物体の像を第2物体上に投影するための投影光学系に、第1物体に続く第1光学要素としてディフォーマブルミラーを備える。
Claim (excerpt):
第1物体の像を第2物体上に投影するための投影光学系において、最も前記第1物体側に配置されたディフォーマブルミラーを備えることを特徴とする投影光学系。
IPC (5):
H01L 21/027 ,  G02B 13/16 ,  G02B 13/18 ,  G02B 17/08 ,  G03F 7/20 521
FI (6):
H01L 21/30 516 A ,  G02B 13/16 ,  G02B 13/18 ,  G02B 17/08 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

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