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J-GLOBAL ID：200903040203526803

レジスト形成用塗布物あるいはレジストの洗浄除去用溶剤及びそれを使用する電子部品製造用基材の製造方法

Inventor： 大野 勇人 ,  中山 一彦 ,  高橋 浩一 ,  徳竹 信生 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993305496
Publication number (International publication number)：1995160008
Application date： Dec. 06, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：

【要約】【構成】 プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート単独あるいはこれを主成分として含有する溶剤から成るレジスト形成用塗布物あるいはレジストの洗浄除去用溶剤。電子部品製造用基材は、スピンナーによりレジスト形成用塗布物を基材に塗布後、基材の周辺部、縁辺部及び裏面部に付着した不要のレジスト形成用塗布物を前記洗浄除去用溶剤で除去後乾燥処理するか、スピンナーによりレジスト形成用塗布物を基材に塗布、乾燥処理してレジストを形成後、基材の周辺部等に付着した不要のレジストを、前記洗浄除去用溶剤で除去して得られる。【効果】 上記溶剤は、レジストの溶解性、特に高エステル化キノンジアジド系感光剤をもつポジ型ホトレジストの溶解性に優れ、極めて安全性が高く、しかも溶解性が経時的に安定していて残さや析出物を生じることがなく、また、均一な膜厚のレジストをもつ高品質の電子部品製造用基材を簡単に効率よく製造することができる。

Claim (excerpt)：

プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート単独あるいはこれを主成分として含有する溶剤から成るレジスト形成用塗布物あるいはレジストの洗浄除去用溶剤。

IPC (2)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027