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J-GLOBAL ID：200903040224074333

単槽式膜分離活性汚泥法における窒素除去方法

Inventor： 吉田 輝久 ,  浜田 英明 ,  水田 耕市
Applicant, Patent owner： 日立機電工業株式会社
Agent (1)： 森 治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000201917
Publication number (International publication number)：2002018468
Application date： Jul. 04, 2000
Publication date： Jan. 22, 2002
Summary：

【要約】【課題】 窒素を含む下水等の汚水を、浸漬膜を設置した単槽式の反応槽で生物処理し、活性汚泥中の硝化細菌と脱窒細菌の作用で、生物学的に窒素を連続的に、かつ効率的に除去することができるようにした単槽式膜分離活性汚泥法における窒素除去方法を提供すること。【解決手段】 空気中の窒素ガスの吸着、離脱を繰り返すことにより、高濃度の酸素ガスを生成させる酸素発生装置10を組み合わせ、発生した酸素ガスを用いて反応槽1内を間欠的に曝気し、脱窒により生成された窒素ガスを用いて、膜分離装置2の膜の洗浄を行うようにする。

Claim (excerpt)：

単槽式の反応槽内に膜分離装置を浸漬した膜分離活性汚泥法において、空気中の窒素ガスの吸着、離脱を繰り返すことにより、高濃度の酸素ガスを生成させる酸素発生装置を組み合わせ、発生した酸素ガスを用いて反応槽内を間欠的に曝気し、離脱により生成された窒素ガスを用いて、膜分離装置の膜の洗浄を行うようにしたことを特徴とする単槽式膜分離活性汚泥法における窒素除去方法。

IPC (7)：

C02F 3/12 ZAB ,  B01D 53/04 ,  B01D 65/02 520 ,  C01B 13/02 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/30 ,  C02F 3/34 101

FI (7)：

C02F 3/12 ZAB S ,  B01D 53/04 B ,  B01D 65/02 520 ,  C01B 13/02 A ,  C02F 1/44 F ,  C02F 3/30 Z ,  C02F 3/34 101 A

F-Term (43)：

4D006GA02 ,  4D006HA93 ,  4D006JA51A ,  4D006JA67A ,  4D006KA02 ,  4D006KA31 ,  4D006KA43 ,  4D006KA63 ,  4D006KB14 ,  4D006KB22 ,  4D006KB23 ,  4D006KE08P ,  4D006KE22Q ,  4D006KE23Q ,  4D006KE24Q ,  4D006KE28Q ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PC62 ,  4D012CA05 ,  4D012CB16 ,  4D012CD07 ,  4D012CH08 ,  4D028AA08 ,  4D028AB00 ,  4D028BB03 ,  4D028BD07 ,  4D028BD08 ,  4D028BD17 ,  4D028CA09 ,  4D028CA10 ,  4D028CB01 ,  4D028CB08 ,  4D028CC05 ,  4D028CC09 ,  4D040BB07 ,  4D040BB24 ,  4D040BB91 ,  4D040DD03 ,  4D040DD14 ,  4G042BA14 ,  4G042BB02 ,  4G042BC06