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J-GLOBAL ID:200903040265865906

レーザ放射を均質化する装置及び方法、並びにこのような装置及び方法を使用するレーザシステム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (7): 杉村 興作 ,  高見 和明 ,  徳永 博 ,  岩佐 義幸 ,  藤谷 史朗 ,  来間 清志 ,  冨田 和幸
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005247891
Publication number (International publication number):2006074041
Application date: Aug. 29, 2005
Publication date: Mar. 16, 2006
Summary:
【課題】加工片をレーザによって表面処理する際に、レーザ放射を均質化する装置と方法を提供する。【解決手段】ホモジナイザ18でレーザ放射を均質化する装置及び方法において、レーザ10及びホモジナイザ18間の相対的位置及び/又は方向を測定する、又はホモジナイザ18の効果を測定する測定機器24と、この相対的位置及び/又は方向を測定の結果として変化させる機器26を備え、測定信号の関数として調節してレーザ放射を均質化する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
レーザ放射が当たるホモジナイザ(18)でレーザ放射を均質化する装置において、当該装置が、 - 前記レーザ放射の、前記ホモジナイザに対する相対的な位置及び/又は方向を測定する、又は前記ホモジナイザの効果を測定する測定機器(24;24’)及び、 - 前記レーザ放射と前記ホモジナイザとの間の前記相対的な位置及び/又は方向を、前記測定の結果の関数として変化させる機器(26;26’) を具えていることを特徴とするレーザ放射均質化装置。
IPC (3):
H01L 21/268 ,  H01L 21/20 ,  H01S 3/00
FI (4):
H01L21/268 T ,  H01L21/268 J ,  H01L21/20 ,  H01S3/00 B
F-Term (17):
5F152AA08 ,  5F152AA17 ,  5F152CE05 ,  5F152EE01 ,  5F152EE03 ,  5F152EE05 ,  5F152FF06 ,  5F152FG03 ,  5F152FG29 ,  5F152FH01 ,  5F152FH04 ,  5F172NN04 ,  5F172NN32 ,  5F172NP03 ,  5F172NR05 ,  5F172NR06 ,  5F172NR14

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