Pat
J-GLOBAL ID:200903040265865906
レーザ放射を均質化する装置及び方法、並びにこのような装置及び方法を使用するレーザシステム
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (7):
杉村 興作
, 高見 和明
, 徳永 博
, 岩佐 義幸
, 藤谷 史朗
, 来間 清志
, 冨田 和幸
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005247891
Publication number (International publication number):2006074041
Application date: Aug. 29, 2005
Publication date: Mar. 16, 2006
Summary:
【課題】加工片をレーザによって表面処理する際に、レーザ放射を均質化する装置と方法を提供する。【解決手段】ホモジナイザ18でレーザ放射を均質化する装置及び方法において、レーザ10及びホモジナイザ18間の相対的位置及び/又は方向を測定する、又はホモジナイザ18の効果を測定する測定機器24と、この相対的位置及び/又は方向を測定の結果として変化させる機器26を備え、測定信号の関数として調節してレーザ放射を均質化する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
レーザ放射が当たるホモジナイザ(18)でレーザ放射を均質化する装置において、当該装置が、
- 前記レーザ放射の、前記ホモジナイザに対する相対的な位置及び/又は方向を測定する、又は前記ホモジナイザの効果を測定する測定機器(24;24’)及び、
- 前記レーザ放射と前記ホモジナイザとの間の前記相対的な位置及び/又は方向を、前記測定の結果の関数として変化させる機器(26;26’)
を具えていることを特徴とするレーザ放射均質化装置。
IPC (3):
H01L 21/268
, H01L 21/20
, H01S 3/00
FI (4):
H01L21/268 T
, H01L21/268 J
, H01L21/20
, H01S3/00 B
F-Term (17):
5F152AA08
, 5F152AA17
, 5F152CE05
, 5F152EE01
, 5F152EE03
, 5F152EE05
, 5F152FF06
, 5F152FG03
, 5F152FG29
, 5F152FH01
, 5F152FH04
, 5F172NN04
, 5F172NN32
, 5F172NP03
, 5F172NR05
, 5F172NR06
, 5F172NR14
Return to Previous Page