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J-GLOBAL ID：200903040281253210
光ディスク成形方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高橋 勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995275448
Publication number (International publication number)：1997120588
Application date： Oct. 24, 1995
Publication date： May. 06, 1997
Summary：
【要約】【目的】 冷却工程における床占有面積を少なくし、光ディスクの変形を有効に抑制し得る光ディスク成形方法を提供すること。【構成】 冷却工程を、回転枠体21上に少なくとも三個以上で且つ奇数の冷却用放置スタック21a〜21gを所定間隔を隔てて円環状に設置すると共に,当該冷却用放置スタック21a〜21gに対して回転枠体21を回転させて光ディスク100を少なくとも一つおきに個別に順次配設する第1の工程と、各冷却用放置スタック21a〜21gの全体に対する光ディスク100の配設完了後に当該最初に配設した光ディスク100から各光ディスク100を順次取り出す第2の工程と、この第2の工程で取り出された光ディスク100を複数枚毎に重ねて後工程に送り出す第3の工程とを備えていること。
Claim (excerpt)：
光ディスクを射出成形する射出成形工程と、この射出成形された光ディスクを除電工程を経たのち徐冷する冷却工程と、この冷却工程を経た後に保護膜等を塗布する後工程とを備えてなる光ディスク成形方法において、前記冷却工程を、回転枠体上に少なくとも三個以上で且つ奇数の冷却用放置スタックを所定間隔を隔てて円環状に設置すると共に,当該冷却用放置スタックに対して前記回転枠体を回転させて前記光ディスクを少なくとも一つおきに個別に順次配設する第1の工程と、前記各冷却用放置スタックの全体に対する前記光ディスクの配設完了後に当該最初に配設した光ディスクから各光ディスクを順次取り出す第2の工程と、この第2の工程で取り出された光ディスクを複数枚毎に重ねて前記後工程に送り出す第3の工程とを備えていることを特徴とした光ディスク成形方法。
IPC (2)：
FI (2)：
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