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J-GLOBAL ID：200903040330871706

高濃度オゾン水製造方法及び高濃度オゾン水製造装置

Inventor： 長廣 仁蔵 ,  堀 登紀男 ,  樋口 健 ,  大濱 靖程
Applicant, Patent owner： 長廣 仁蔵
Agent (1)： 三好 秀和 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992082520
Publication number (International publication number)：1994292822
Application date： Apr. 03, 1992
Publication date： Oct. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】 高濃度で、半減期が長い利用価値が高いオゾン水を経済性よく製造すること。【構成】 液体ノズルとガスノズルとを有するエゼクタ式ガスノズル17を用い、液体ノズルより反応槽1内の原料用水A中に噴射用水Bを噴出し、噴射用水Bの噴流による負圧によりオゾンガスを吸引してオゾンガスを微細気泡状態にてガスノズルより原料用水A中に噴出させ、オゾンガスによる微細気泡と原料用水Aとの間の気液反応によりオゾンを原料用水A中に溶解せしめ、この気液反応過程にて反応槽1内の原料用水Aの温度と圧力の少なくとも何れか一方を定量的に制御し、この制御のもとに高濃度オゾン水を製造する。

Claim (excerpt)：

液体ノズルとガスノズルとを有するエゼクタ式ガスノズルを用い、前記液体ノズルから高圧オゾン反応槽内の原料用水中に噴射用水を噴出し、当該噴射用水の噴流による負圧によりオゾンガスを吸引してオゾンガスを微細気泡状態にて前記ガスノズルより原料用水中に噴出させ、当該オゾンガスによる微細気泡と原料用水との間の気液反応によりオゾンを原料用水中に溶解せしめることにより高濃度オゾン水を製造する高濃度オゾン水製造方法。

IPC (4)：

B01F 1/00 ,  B01F 3/04 ,  C01B 13/10 ,  C02F 1/78

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-090891
  
• 特開昭52-022356
  
• 特公昭54-044675
  
• 特開平1-194994