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J-GLOBAL ID：200903040340167560

強誘電体デバイス

Inventor：
中村 孝

About 中村 孝


Applicant, Patent owner：
ローム株式会社

About ローム株式会社


Agent (1)： 安村 高明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991205874
Publication number (International publication number)：1993090599
Application date： Aug. 16, 1991
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 強誘電体層の導電体と半導体との界面での膜疲労を減少させる。【構成】 強誘電体デバイスを構成する導電体と強誘電体層2及び半導体と強誘電体層間に膜疲労を緩和する中間層6を形成する。
Claim (excerpt)：
変位分極による自発分極を持つ強誘電体を半導体基板又は半導体薄膜の上に積層し、さらにその上に導電体を積層する構造の強誘電体デバイスにおいて、前記強誘電体と半導体及び強誘電体と導電体の夫々の間に、強誘電体と同じ方向に変位分極を生じて常温で残留分極が大略0になるペロブスカイト構造を持つ応力緩和用の中間層を介在させてなることを特徴とする強誘電体デバイス。
IPC (2)：
H01L 29/788 ,  H01L 29/792
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特開平2-049471
  • 特開昭57-172772
  • 特開平2-248089
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