高集積光導波路

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小川勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993330503
Publication number (International publication number)：1995191224
Application date： Dec. 27, 1993
Publication date： Jul. 28, 1995
Summary：

【要約】【構成】第1領域(2)と第2領域(3)とで構成された光導波路が基板表面形成された凹部或いは凸部の側壁に接した構造とする。【効果】本構造により光の速度で伝達する配線と高集積性が同時に達成させるため、これを用いた高性能な計算機システム、通信システムが提供できる。

Claim (excerpt)：

第1領域で囲まれた第2領域の屈折率が第1領域よりも大きな光導波路において、導波路構造が基板の表面の突起、或いは基板内に設けられた溝の側面に形成されていることを特徴とする光導波路。

FI (2)：

G02B 6/12 A , G02B 6/12 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平3-144514
特開昭62-143004
特開昭55-028047

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