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J-GLOBAL ID:200903040350936537
レーザー加工用プラスチック材料、該材料が加工されたプラスチック構造体及びその製造方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
後藤 幸久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001359703
Publication number (International publication number):2003160734
Application date: Nov. 26, 2001
Publication date: Jun. 06, 2003
Summary:
【要約】【課題】 超短パルスレーザーの照射により、構造が変化した構造変化部を有するプラスチック構造体を作製するための加工に適したプラスチック材料および該プラスチック材料が加工されたプラスチック構造体を提供する。【解決手段】 レーザー加工用プラスチック材料は、パルス幅が10-12秒以下のレーザーを外部から照射することにより加工するレーザー加工用プラスチック材料であって、前記パルス幅が10-12秒以下のレーザーの照射エネルギーを吸収する物質を含有することを特徴とする。前記レーザーの照射エネルギーを吸収する物質は、着色剤、光重合開始剤、光安定剤であってもよい。また、プラスチック構造体は、前記レーザー加工用プラスチック材料に、パルス幅が10-12秒以下のレーザーを外部から照射することにより得られる。
Claim (excerpt):
パルス幅が10-12秒以下のレーザーを外部から照射することにより加工するレーザー加工用プラスチック材料であって、前記パルス幅が10-12秒以下のレーザーの照射エネルギーを吸収する物質を含有することを特徴とするレーザー加工用プラスチック材料。
IPC (5):
C08L101/00
, B23K 26/00
, C08J 7/02 CER
, C08J 7/02 CEZ
, C08K 5/00
FI (5):
C08L101/00
, B23K 26/00 G
, C08J 7/02 CER Z
, C08J 7/02 CEZ
, C08K 5/00
F-Term (22):
4E068CF03
, 4E068DB10
, 4F073AA32
, 4F073BA13
, 4F073BA14
, 4F073BA18
, 4F073BA23
, 4F073BA29
, 4F073BB01
, 4F073BB08
, 4F073CA46
, 4F073CA53
, 4J002BD041
, 4J002BD101
, 4J002BG001
, 4J002CF001
, 4J002CL001
, 4J002EE027
, 4J002EE037
, 4J002EL097
, 4J002EV307
, 4J002FD096
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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特開昭63-236685
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光導波路及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-193507
Applicant:松下電工株式会社, 平尾一之
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有機質・無機質複合導波路及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-194992
Applicant:日立電線株式会社
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