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J-GLOBAL ID：200903040359264930

光導波路及びその製造方法

Inventor： 井本 克之 ,  川又 繁 ,  堀 彰弘
Applicant, Patent owner： 日立電線株式会社
Agent (1)： 松本 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992000170
Publication number (International publication number)：1993181031
Application date： Jan. 06, 1992
Publication date： Jul. 23, 1993
Summary：

【要約】【目的】コアとクラッドの屈折率差が大きく、反りの小さい低損失な光導波路を安価に製造する。【構成】SiO2 基板1上に、プラズマCVD法によって作成したSiONHの凸状コア2をもつ。このコア2の屈折率nw は1.46〜1.57の範囲から選べるため屈折率制御用添加物を含ませる必要がない。コア2を覆うクラッド3にはSiO2 を用い、さらに比屈折率差の増大化と熱膨張係数の調節用としてB、P、F、等の屈折率制御用添加物を少なくとも1種含んだものを用いる。クラッド3にSiO2 を用いると、コア2とクラッド3との比屈折率差は0.17%から7.0%の範囲で変えることができる。SiONHの膜はSiO2 基板1、クラッド3の熱膨張係数に近い値をもつため、反りが小さくなる。

Claim (excerpt)：

屈折率がn<SB>w </SB>の凸状のコアの外周を屈折率がn<SB>c </SB>(n<SB>c </SB><n<SB>w </SB>)のクラッドで覆った光導波路において、上記コアの材質にSiO<SB>X </SB>N<SB>Y </SB>H<SB>Z </SB>(x,y>0,z≧0の実数)を用いたことを特徴とする光導波路。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平1-227104