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J-GLOBAL ID：200903040361684971
2段階の化学増幅を利用するパタン形成材料
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中本 宏 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992129321
Publication number (International publication number)：1993297576
Application date： Apr. 23, 1992
Publication date： Nov. 12, 1993
Summary：
【要約】【目的】 高感度化と高解像化を同時に可能とする新規な化学増幅システムに必須となる酸発生剤とそれを用いた化学増幅レジストを提供する。【構成】 酸触媒反応によって分解が促進され、その分解反応の結果強酸を生成する酸分解性エステル化合物を含む、2段階の化学増幅を利用したパタン形成材料。該エステルの例には、スルホン酸エステル、トリハロ酢酸エステル、α-ジハロ酢酸エステルがあり、他の構成分の例としては、架橋性又は酸分解性を有し、若しくは有しないマトリックス樹脂と、酸発生剤があり、その他必要に応じて、酸分解性溶解阻害剤、架橋剤を用いる。【効果】 従来の化学増幅を利用したパタン形成材料よりも高感度で高解像を与える。
Claim (excerpt)：
酸触媒反応によって分解が促進され、その分解反応の結果強酸を生成する酸分解性エステル化合物を含むことを特徴とする化学増幅を利用したパタン形成材料。
IPC (6)：
G03F 7/004 503
, G03F 7/004 515
, G03F 7/028
, G03F 7/038 505
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
