化学増幅型ホトレジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：阿形明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997011581
Publication number (International publication number)：1998207069
Application date： Jan. 24, 1997
Publication date： Aug. 07, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ArFエキシマレーザーに対する透明性がよく、かつ優れた感度、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性及び密着性を示すとともに、アルカリに対し良好な親和性を示し、パドル現像により良好なレジストパターンを与えうる化学増幅型ホトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化するアクリル系樹脂及び(B)酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、(A)成分がその構成単位の少なくとも一部として一般式【化1】(R1は水素原子又はメチル基、R2、R3及びR4はそれぞれ水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基、nは0又は1)で表わされる構成単位を有するアクリル酸若しくはメタクリル酸系重合体又は共重合体である化学増幅型ホトレジスト組成物とする。

Claim (excerpt)：

(A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化するアクリル系樹脂及び(B)酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、(A)成分がその構成単位の少なくとも一部として一般式【化1】(式中のR1は水素原子又はメチル基、R2、R3及びR4はそれぞれ水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基であり、nは0又は1である)で表わされる構成単位を有するアクリル酸若しくはメタクリル酸系重合体又は共重合体であることを特徴とする化学増幅型ホトレジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/42 , C08L 33/14 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027 , C08F 20/28

FI (6)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/42 , C08L 33/14 , G03F 7/004 503 A , C08F 20/28 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-312722 Applicant：富士通株式会社
分解性化合物および分解性樹脂並びにこれらを用いた感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-327775 Applicant：三菱電機株式会社
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-050264 Applicant：富士通株式会社

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