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J-GLOBAL ID：200903040392584770

電子装置の製造方法

Inventor： クロス ジェフリー スコット ,  塚田 峰春
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 高橋 敬四郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000279819
Publication number (International publication number)：2002094018
Application date： Sep. 14, 2000
Publication date： Mar. 29, 2002
Summary：

【要約】【課題】 より特性の優れた導電性酸化物膜を製造することのできる電子装置の製造方法を提供する。【解決手段】 電子装置の製造方法は、(ア)化合物導電体膜を下地上に形成する工程と、(イ)前記化合物導電体膜に液相処理を行ない、少なくとも表面の組成を調整する工程とを含む。

Claim (excerpt)：

(ア)化合物導電体膜を下地上に形成する工程と、(イ)前記化合物導電体膜に液相処理を行ない、少なくとも表面の組成を調整する工程とを含む電子装置の製造方法。

IPC (5)：

H01L 27/105 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/316 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242

FI (6)：

H01L 21/203 S ,  H01L 21/316 B ,  H01L 27/10 444 B ,  H01L 27/10 444 C ,  H01L 27/10 621 Z ,  H01L 27/10 651

F-Term (31)：

5F058BA11 ,  5F058BB10 ,  5F058BC01 ,  5F058BF46 ,  5F058BF55 ,  5F058BF62 ,  5F058BH20 ,  5F058BJ04 ,  5F083AD21 ,  5F083AD49 ,  5F083FR02 ,  5F083JA14 ,  5F083JA15 ,  5F083JA38 ,  5F083JA39 ,  5F083JA43 ,  5F083JA45 ,  5F083MA06 ,  5F083MA17 ,  5F083MA19 ,  5F083MA20 ,  5F083PR23 ,  5F083PR33 ,  5F103AA08 ,  5F103BB22 ,  5F103DD30 ,  5F103GG03 ,  5F103HH03 ,  5F103LL14 ,  5F103PP06 ,  5F103RR10