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J-GLOBAL ID：200903040406380685

銅の高電流密度電解精製方法

Inventor： 古田 基美 ,  拝生 憲治 ,  橋本 守友 ,  薦田 康夫
Applicant, Patent owner： 三井金属鉱業株式会社
Agent (1)： 小林 英一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000158020
Publication number (International publication number)：2001335983
Application date： May. 29, 2000
Publication date： Dec. 07, 2001
Summary：

【要約】【課 題】 銅の高電流密度電解操業において、電気銅S品位の低減と電力原単位の改善を同時に達成できる銅の電解精製方法を提供する。【解決手段】 銅の高電流密度電解精製方法において、添加剤としてニカワ、チオ尿素とともに陰イオン活性剤を用いる。この陰イオン活性剤は、炭素数7〜13のものが好ましく、なかでも、スルホン酸塩、硫酸塩、リン酸塩、カルボン酸塩のうちから選ばれた1種または2種以上が好ましい。また、陰イオン活性剤の電解液への投入形態は連続的投入が好ましく、また、その添加量は、製品電気銅1t当たり1g/t 以上に設定することが好ましい。

Claim (excerpt)：

銅の高電流密度電解精製方法において、添加剤として、ニカワ、チオ尿素を用いるとともに、陰イオン活性剤を用いることを特徴とする銅の高電流密度電解精製方法。

F-Term (6)：

4K058AA14 ,  4K058AA15 ,  4K058BA21 ,  4K058BB03 ,  4K058CA08 ,  4K058CA22