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J-GLOBAL ID:200903040433677703

ウエハ保持装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 深見 久郎 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991274090
Publication number (International publication number):1993114645
Application date: Oct. 22, 1991
Publication date: May. 07, 1993
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 1300°C以上の高温の熱処理工程においてもウエハの塑性変形が生じることのない、ウエハ保持装置を提供する。【構成】 複数本略平行に配された支柱3と、ウエハ6を保持するためにその支柱に取付けられたウエハ保持用支持板4とを備える。ウエハ保持用支持板4には、凹状に切欠いた凹部5が形成されている。
Claim (excerpt):
複数本略平行に配された支柱と、シリコンウエハを保持するために、前記支柱に取付けられたウエハ保持用支持板とを備えたウエハ保持装置。
IPC (4):
H01L 21/68 ,  B65D 85/00 ,  B65D 85/38 ,  H01L 21/22

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