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J-GLOBAL ID：200903040491902822

洗浄剤組成物

Inventor： 長島 徹哉 ,  吉田 達哉 ,  藤井 保
Applicant, Patent owner： 川研ファインケミカル株式会社
Agent (1)： 青木 朗 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992147482
Publication number (International publication number)：1993339597
Application date： Jun. 08, 1992
Publication date： Dec. 21, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 皮膚刺激が少なく、すすぎ時のぬめり感が少なく、乾燥後のサッパリ感がすぐれている洗浄剤組成物を提供する。【構成】 式(1)又は(2)の化合物と式(3)の化合物との反応生成有機化合物からなるアミドアミン型またはアミドベタイン型両性界面活性剤からなる成分(A)と、式(4)のN-ポリオキシエチレン脂肪酸アミドエーテルサルフェートからなる成分(B)とを含む洗浄剤組成物。〔R1 =C7-19アルキル、又はアルケニル基、R2 ,R3 =ヒドロキシエチル基、又はH,R4 =C7-19アルキル、又はアルケニル基、R5 ,R6 =メチル、エチル、ヒドロキシアルキレン基、R7 =C7-19アルキル、又はアルケニル基、M1 =アルカリ金属、アンモニウム、アルカノールアミン、低級脂肪族アミンのカチオン残基、又はH,M2 =アルカリ金属、又はアルカリ土類金属、アンモニウム基、或はトリエタノールアミン、又は塩基性アミノ酸の陽イオン残基。〕

Claim (excerpt)：

下記2成分(A)および(B):(A)下記一般式(1)および(2):【化1】〔但し、式(1)中、R1 は炭素数7〜19のアルキル基、またはアルケニル基を表わし、R2 、およびR3 はヒドロキシエチル基、または水素原子を表わし、式(2)中、R4 は炭素数7〜19のアルキル基、またはアルケニル基を表わし、R5 およびR6 はメチル基、エチル基、またはヒドロキシアルキレン基を表わす。〕のアミドアミン化合物から選ばれた少なくとも1種と、下記一般式(3):【化2】〔但し、式(3)中、M1 はアルカリ金属原子、アンモニウム基、アルカノールアミンおよび低級脂肪族アミンの陽イオン残基、並びに水素原子から選ばれた1種を表わす。〕で示されるモノクロル酢酸化合物と、の反応生成有機化合物からなるアミドアミン型、またはアミドベタイン型両性界面活性剤、および、(B)下記一般式(4):【化3】〔但し、式(4)中、R7 は、炭素数7ないし19のアルキル基、またはアルケニル基を表わし、M2 はアルカリ金属およびアルカリ土類金属原子、アンモニウム基、並びにトリエタノールアミンおよび塩基性アミノ酸の陽イオン残基から選ばれた1種を表わし、nは2〜10の整数を表わし、mはM2 により表わされる原子又は基の価数に等しい整数を表わす。〕のN-ポリオキシエチレン脂肪酸アミドエーテルサルフェート、を含む洗浄剤組成物。

IPC (5)：

C11D 1/65 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1:52 ,  C11D 1:29