光学デバイス用材料・光学デバイス・光学デバイス製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：樺山亨 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994000261
Publication number (International publication number)：1995198906
Application date： Jan. 06, 1994
Publication date： Aug. 01, 1995
Summary：

【要約】【目的】広範なレンズ作用を実現しやすい光学デバイスの製造方法を提供する。【構成】透明な基体1上に形成されたレンズ面形成層10上に、直接もしくは遮光層を介して形成されたフォトレジスト12の層に、レンズパターンもしくはレンズ配列パターンをフォトリソグラフィによりパターニングし、パターニングされたフォトレジスト12の層を熱処理し、フォトレジスト12の熱流動と表面張力とにより、フォトレジストの表面を凸曲面化し、表面を凸曲面化されたフォトレジスト12とレンズ面形成層10に対してドライエッチングを行い、フォトレジスト12の表面の凸曲面形状をレンズ面形成層10に彫り写すことにより、レンズ面形成層10に、レンズパターンもしくはレンズ配列パターンに対応したレンズ面もしくはレンズ面配列を得る。

Claim (excerpt)：

透明な基体の1以上の面に、基体と屈折率の異なる透明材料の層を、レンズ面形成層として所望の厚さに形成してなる光学デバイス用材料。

IPC (4)：

G02B 3/00 , B29C 69/00 , B29D 11/00 , B29L 11:00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (22)

マイクロレンズおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-197959 Applicant：大日本印刷株式会社
特開平4-226073
マイクロレンズアレイの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-337166 Applicant：富士通株式会社

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