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J-GLOBAL ID:200903040568306993

誘導プラズマの発生方法および装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山口 巖
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993204381
Publication number (International publication number):1995057893
Application date: Aug. 19, 1993
Publication date: Mar. 03, 1995
Summary:
【要約】【目的】直径が大きく、かつ温度分布が均一な誘導プラズマを形成する。【構成】軸方向にらせん状に巻回された第一コイル1と、この第一コイル1の内部を軸方向に流れるプラズマシードガス7と、第一コイル1の外周を軸方向にらせん状に巻回された第二コイル15とにより構成され、第一コイル1および第二コイル15に周波数が互いに異なる交番電流が通電されるとともに、第二コイル15には第一コイル1より低い周波数の交番電流が通電される。
Claim (excerpt):
軸方向にらせん状に巻回された第一コイルの内部にプラズマシードガスを軸方向に流し、第一コイルの外周、又は第一コイルの内部から下流側へ流れ出るプラズマシードガスの外周を軸方向にらせん状に第二コイルでもって巻回し、第一コイルおよび第二コイルに周波数が互いに異なる交番電流を通電するとともに、第二コイルには第一コイルより低い周波数の交番電流を通電することによってプラズマシードガスをプラズマ化させることを特徴とする誘導プラズマの発生方法。
IPC (3):
H05H 1/46 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/50
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開昭63-237399
  • 特開昭63-158799
  • 特開昭62-086700
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