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J-GLOBAL ID：200903040569955529

光ビーム照射測定装置

Inventor： 鈴木 敏 ,  高井 利久
Applicant, Patent owner： パルステック工業株式会社
Agent (1)： 大庭 咲夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000331902
Publication number (International publication number)：2002139311
Application date： Oct. 31, 2000
Publication date： May. 17, 2002
Summary：

【要約】【課題】 対象物までの距離又は対象物の表面の3次元形状を測定する光ビーム照射測定装置において、測定精度を良好にする。【解決手段】 光ビーム放射器10は、対象物OBの表面に光ビームを放射して、対象物OBの表面に照射スポットを形成する。この照射スポットからの反射光は、結像レンズ31を介してラインセンサ32によって受光される。コントローラ40は、ラインセンサ32による反射光の受光位置に基づいて、対象物OBの表面までの距離及び対象物OBの表面の3次元形状を測定する。フォトセンサ61は、ラインセンサ32によって反射された反射光を受光する。フォトセンサ61によって検出された反射光の受光量により、光ビーム放射器10からの光ビームの光量を補正して、ラインセンサ32による反射光の光量が常に一定に保たれるようにする。

Claim (excerpt)：

対象物に向けて光ビームを放射して同対象物の表面に照射スポットを形成する光ビーム放射器と、前記対象物の表面からの反射光を前記光ビーム放射器から前記対象物の表面の照射スポットまでの距離に応じた位置にて受光する受光器とを備え、前記受光器にて受光した反射光の位置に応じて前記光ビーム放射器から前記対象物の表面の照射スポットまでの距離又は前記対象物の表面の3次元形状を測定する光ビーム照射測定装置において、前記受光器の受光面から反射する反射光を受光して同受光した反射光の受光量を検出するフォトセンサと、前記フォトセンサによって検出された受光量に応じて前記光ビーム放射器から前記対象物に放射される光ビームの光量を補正する光量補正手段とを設けたことを特徴とする光ビーム照射測定装置。

IPC (4)：

G01B 11/24 ,  G01B 11/00 ,  G01C 3/06 ,  G01S 17/46

FI (4)：

G01B 11/00 B ,  G01C 3/06 A ,  G01S 17/46 ,  G01B 11/24 A

F-Term (41)：

2F065AA06 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065EE03 ,  2F065FF09 ,  2F065FF66 ,  2F065GG04 ,  2F065GG06 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ16 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL04 ,  2F065LL13 ,  2F065LL62 ,  2F065MM26 ,  2F065NN02 ,  2F065NN16 ,  2F112AA06 ,  2F112BA01 ,  2F112CA08 ,  2F112CA12 ,  2F112EA09 ,  2F112FA03 ,  2F112FA21 ,  2F112FA25 ,  2F112FA45 ,  5J084AA05 ,  5J084AA13 ,  5J084AB17 ,  5J084AD07 ,  5J084BA04 ,  5J084BA36 ,  5J084BA39 ,  5J084BA50 ,  5J084BB02 ,  5J084BB21 ,  5J084DA01 ,  5J084EA04 ,  5J084EA19 ,  5J084FA03