レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：井桁貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991208302
Publication number (International publication number)：1993045879
Application date： Aug. 20, 1991
Publication date： Feb. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】本発明は、新規なレジスト組成物に関し、新規な架橋剤を用いることにより、解像性に優れたネガ型レジストの提供とこれを用いた微細で耐エッチング性にすぐれたネガ型レジストパタ-ンの形成方法の提供をその目的とする。【構成】アルカリ可溶性樹脂と酸発生剤と一般式【化1】(Rは炭素数1〜10のアルキル基,nは1〜20までの整数)で示されるメチル化メチロ-ルメラミンのオリゴマからなる架橋剤とを含むように構成する。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂と酸発生剤と一般式【化1】(Rは炭素数1〜10のアルキル基,nは1〜20までの整数)で示されるメチル化メチロ-ルメラミンのオリゴマからなる架橋剤とを含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/004 503 , G03F 7/26 , H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 R , H01L 21/30 361

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平2-023355
特開平2-217855
特開昭63-097948

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