Pat

J-GLOBAL ID：200903040607265477

オレフィン類の重合

Inventor： ジヨンソン,リンダ・ケイ ,  ベネツト,アリソン・マーガレツト・アン ,  イツテル,スチーブン・デイル ,  ワング,リン ,  パーササラテイ,アンジユ ,  ホープトマン,エリザベス ,  シンプソン,ロバート・デイ ,  フエルドマン,ジエラルド ,  コフリン,エドワード・ブライアン
Applicant, Patent owner： イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
Agent (1)： 小田島 平吉 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1998531236
Publication number (International publication number)：2000514132
Application date： Jan. 13, 1998
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：

【要約】特定のモノアニオン性配位子を含むニッケル[II]錯体を用いて、選択したオレフィン類、例えばエチレンおよびα-オレフィン類などを重合させる。このようなポリオレフィン類は数多くの用途、例えば樹脂、フィルム、繊維および他の成形で用いるに有用である。また、数多くの新規なニッケル化合物およびそれの前駆体ばかりでなく新規な配位子も記述する。

Claim (excerpt)：

R67CH=CH2、シクロペンテン、スチレン、ノルボルネンまたはH2C=CH(CH2)sCO2R77の1種以上から選択されるオレフィンの重合方法であって、R67CH=CH2、シクロペンテン、スチレン、ノルボルネンまたはH2C=CH(CH2)sCO2R77、任意にルイス酸、および式:[式中、Ar1、Ar2、Ar4、Ar5、Ar10、Ar11、Ar12およびAr13は、各々独立して、アリールまたは置換アリールであり、R1およびR2が各々独立して水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルであるか或はR1とR2が一緒になって環を形成しており、そしてR3が水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであるか、或はR1とR2とR3が一緒になって環を形成しており、Aは、π-アリルまたはπ-ベンジル基であり、R10およびR15は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、R11、R12、R13、R14、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R50、R51、R52、R53およびR54は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、不活性な官能基であり、そしてこれらの基のいずれか2つは互いに隣接していることを条件として、一緒になって環を形成することができ、Kは、NまたはCR27であり、R22がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、-SR117、-OR117または-NR1182であり、R24が水素、官能基、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、そしてR27がヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、そしてR22とR24またはR24とR27は一緒になって環を形成することができ、R117は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、各R118は、独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、GおよびLは両方がNであるか或はGがCR57でLがCR55であり、R55、R56およびR57は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであるか、或はR55、R56およびR57のいずれか2つが一緒になって環を形成しており、R67は、水素、アルキルまたは置換アルキルであり、R77は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、R78は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、R79、R80、R81、R82、R83、R84、R85、R86、R87、R88およびR89は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、R90、R91、R92およびR93は、各々独立して、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、R94およびR95は、各々独立して、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、R96、R97、R98およびR99は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、Tは両方ともS(硫黄)またはNH(アミノ)であり、各Eは、N(窒素)またはCR108であり、ここで、R108は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、R100、R101、R102、R103、R104、R105、R106およびR107は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、R109、R110、R111、R112、R113、R114、R115およびR116は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基であり、sは、1またはそれ以上の整数であり、そしてR28およびR29は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルである]但しH2C=CH(CH2)sCO2R77が存在する時にはまたR67CH=CH2も存在するで表される化合物を約-100°Cから約+200°Cの温度で接触させることを含んでなる方法。

IPC (9)：

C08F 4/70 ,  C07C229/30 ,  C07C251/08 ,  C07C251/12 ,  C07C251/20 ,  C07C251/24 ,  C07F 15/04 ,  C08F 4/26 ,  C08F 10/00

FI (9)：

C08F 4/70 ,  C07C229/30 ,  C07C251/08 ,  C07C251/12 ,  C07C251/20 ,  C07C251/24 ,  C07F 15/04 ,  C08F 4/26 ,  C08F 10/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭61-165339
  
• ビス-およびトリス(ピラゾリル)ボラト金属錯体触媒
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平9-523306   Applicant：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト