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J-GLOBAL ID：200903040610338655

マイクロ化学プロセス用基材及びその製造方法

Inventor：
原口 和敏

About 原口 和敏


Applicant, Patent owner：
財団法人川村理化学研究所

About 財団法人川村理化学研究所


Agent (1)： 高橋 勝利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003071769
Publication number (International publication number)：2004277590
Application date： Mar. 17, 2003
Publication date： Oct. 07, 2004
Summary：
【課題】微細で複雑な外形形状、表面凹凸、内部流路、内部空隙などを有し、機能性及び取り扱い性に優れたマイクロ化学プロセス用基材及びその製造方法を提供する。【解決手段】水膨潤性粘土鉱物を含有する高分子ゲルからなり、流路を内部に含む、および/または表面に凹凸を有することを特徴とするマイクロ化学プロセス用基材、および鋳型に、水溶性有機モノマーと微分散した水膨潤性粘土鉱物を含む水溶液中を注入し,該水溶性有機モノマーを重合させて高分子ゲルを調製した後,該高分子ゲルを該鋳型から離型することを特徴とするマイクロ化学プロセス用基材の製造方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
水膨潤性粘土鉱物を含有する高分子ゲルからなり、流路を内部に含む、および/または表面に凹凸を有することを特徴とするマイクロ化学プロセス用基材。
IPC (4)：
C08L101/00 ,  C08K3/00 ,  G01N35/08 ,  G01N37/00
FI (4)：
C08L101/00 ,  C08K3/00 ,  G01N35/08 C ,  G01N37/00 101
F-Term (8)：
2G058DA00 ,  2G058DA07 ,  4B029AA08 ,  4B029GB06 ,  4J002BG121 ,  4J002BG131 ,  4J002DJ006 ,  4J002FD016
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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