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J-GLOBAL ID：200903040616014223

屈折率分布型光学素子の製造方法

Inventor： 山根 正之 ,  小池 尚 ,  井波 実
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 奈良 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992269487
Publication number (International publication number)：1994092646
Application date： Sep. 11, 1992
Publication date： Apr. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ゲル中の夫々の金属成分について個別に組成分布形状の制御が行えるようにし、ゲル焼成の際の亀裂を防ぎ、所望の屈折率分布とする。【構成】 ゾル・ゲル法により屈折率分布型光学素子を製造するにあたり、まずシリカゾルを調整する。このシリカゾルにシリコン以外の金属種から選択した第1の金属成分を金属塩として導入した後、ゲル化する。次に、この湿潤ゲルを、前記第1の金属成分と異なる第2の金属成分およびプロトンを供給する化合物を含む溶液に浸漬する。

Claim (excerpt)：

シリカゾルを調製する工程と、このシリカゾルにシリコン以外の金属種から選択した第1の金属成分を金属塩として導入した後、ゲル化する工程と、この湿潤ゲルを、前記第1の金属成分と異なる第2の金属成分およびプロトンを供給する化合物を含む溶液に浸漬する工程とを備えたことを特徴とする屈折率分布型光学素子の製造方法。

IPC (3)：

C03B 8/02 ,  C03C 21/00 ,  G02B 1/02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• 特開昭63-277525
  
• 特開昭61-183136
  
• 特開昭63-064928
  
• 特開昭60-042239
  
• 特開平4-260609
  

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-277525
  
• 特開昭61-183136
  
• 特開昭63-064928
  
• 特開昭60-042239