Pat

J-GLOBAL ID：200903040647779821

投影露光装置

Inventor： 伊東 昌昭 ,  武田 英次
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992326425
Publication number (International publication number)：1994177002
Application date： Dec. 07, 1992
Publication date： Jun. 24, 1994
Summary：

【要約】【目的】パターン寸法に応じて高い露光強度が得られるX線投影露光方法とその装置を提供する。【構成】X線または真空紫外線で照明されたマスク上のパターンを、反射鏡から構成される結像光学系により基板に転写する投影露光において、波長領域を可変とする。【効果】パターン寸法が大きい場合、長波長領域のX線または真空紫外線を使用して露光強度を増加させることが可能であり、生産性向上の効果が大きい。

Claim (excerpt)：

X線または真空紫外線で照明されたマスク上のパターンを、反射鏡から構成される結像光学系により基板に転写する投影露光において、波長領域が可変であることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 331 A