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J-GLOBAL ID：200903040660674265

レジスト組成物

Inventor：
榊原 満彦

About 榊原 満彦

, 
内藤 真紀子

About 内藤 真紀子


Applicant, Patent owner：
日本合成ゴム株式会社

About 日本合成ゴム株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993339689
Publication number (International publication number)：1995159998
Application date： Dec. 06, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：
【要約】【目的】 解像度およびパターンのエッジ形状に優れ、高アスペクト比を達成できるをとともに、現像性、基板との密着性なども良好で、高密度実装に対応可能な優れた特性バランスを有し、金属腐蝕もなく、黒変もなく、かつ環境などにも問題がない水あるいは希アルカリ水により現像可能である新規レジスト組成物を提供する。【構成】 レジスト組成物は、(A)カルボキシル基含有共重合体、(B)脂肪族アミノ基含有化合物およびN,N-ジ置換(メタ)アクリルアミドから選ばれる少なくとも1つの化合物、(C)光重合開始剤、(D)トリアゾール化合物。
Claim (excerpt)：
(A)カルボキシル基含有共重合体、(B)脂肪族アミノ基含有化合物およびN,N-ジ置換(メタ)アクリルアミドから選ばれる少なくとも1種の化合物、(C)光重合開始剤、および(D)トリアゾール化合物を含有することを特徴とする水または希アルカリ水により現像可能なレジスト組成物。
IPC (7)：
G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/085 ,  H05K 3/00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
  • 特開昭57-020732
  • 特開昭59-048752
  • 特開平4-039664
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