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J-GLOBAL ID:200903040676156299

排ガス浄化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 谷 義一 ,  阿部 和夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003181898
Publication number (International publication number):2005016411
Application date: Jun. 25, 2003
Publication date: Jan. 20, 2005
Summary:
【課題】排ガスとプラズマとを確実に接触させて排ガスを良好に浄化することができる排ガス浄化装置の提供を目的とする。【解決手段】プラズマを利用して排ガスを浄化する排ガス浄化装置1は、排ガスを流通させる排気管Lの内部に配置され、排ガスの流れ方向上流側から下流側に向けて開口面積が漸減しているコーン部11を含む漏斗状の第1電極10と、第1電極10の下流側に配置されており、第1電極10と対をなす棒状の第2電極20とを備える。そして、第1電極10の下流端と第2電極20の先端との間の距離は、およそ-50〜100mmの範囲から選択される。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
プラズマを利用して排ガスを浄化する排ガス浄化装置において、 排ガスを流通させる排ガス流路内に配置され、排ガスの流れ方向上流側から下流側に向けて開口面積が漸減している領域を含む筒状の第1電極と、 前記第1電極の下流側に配置されており、前記第1電極と対をなす第2電極とを備えることを特徴とする排ガス浄化装置。
IPC (1):
F01N3/08
FI (1):
F01N3/08 C
F-Term (10):
3G091AA02 ,  3G091AB03 ,  3G091AB14 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091BA19 ,  3G091CA00 ,  3G091GA01 ,  3G091GB06W ,  3G091GB10W

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