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J-GLOBAL ID：200903040736566947

純水製造装置

Inventor： 小泉 求
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社
Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997077830
Publication number (International publication number)：1998272465
Application date： Mar. 28, 1997
Publication date： Oct. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】 工業用水を脱カチオン処理した水と、電子部材製造排水を脱アニオン処理した水とを混合し、混合水をRO膜分離装置で脱イオン処理する純水製造装置において、RO膜分離装置の濃縮水を回収、再利用して水回収率を高める。【解決手段】 RO膜分離装置5の濃縮水を電子部材製造排水処理系Aに返送してアニオン交換処理する。【効果】 アニオンが濃縮されたRO膜濃縮水を電子部材製造排水処理系でアニオン交換処理することにより、再利用可能な水質に高める。アニオン交換樹脂には、SiO2 や生菌の除去作用があるため、濃縮水中のSiO2 や生菌を除去できる。別途濃縮水の処理設備を増設することなく、スケール生成やスライム汚染等の問題を防止して、RO膜濃縮水を回収、再利用することが可能となり、水回収率が向上する。

Claim (excerpt)：

工業用水を脱カチオン処理するカチオン交換装置を備える工業用水処理系と、電子部材製造排水を脱アニオン処理するアニオン交換装置を備える電子部材製造排水処理系と、前記工業用水処理系の処理水と電子部材製造排水処理系の処理水とを混合し、該混合水を脱イオン処理する脱イオン装置とを備える純水製造装置において、該脱イオン装置は逆浸透膜分離装置を含み、該逆浸透膜分離装置の濃縮水を前記電子部材製造排水処理系に返送する手段を有することを特徴とする純水製造装置。

IPC (4)：

C02F 1/44 ,  B01D 61/08 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/42 ZAB

FI (4)：

C02F 1/44 H ,  B01D 61/08 ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/42 ZAB E