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J-GLOBAL ID：200903040762406265

マイクロ構造体及びその形成法

Inventor： 八木 隆行
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994272109
Publication number (International publication number)：1996140368
Application date： Nov. 07, 1994
Publication date： May. 31, 1996
Summary：

【要約】【目的】 マイクロ構造体及び基板に使用する材料に制限がなく、電極パターンを有するマイクロ構造体と基板との電気的接続が可能な、マイクロ構造体とその形成法を提供する。【構成】 基板10と、支持部13,13’と、レバー12と該レバーに形成した電極17からなるビームとからなるマイクロ構造体において、該支持部により前記基板と空隙を介してビーム及び/又は電極部が上面より支持され、前記ビームの下面に前記電極部が形成されているマイクロ構造体を提供する。また、上記マイクロ構造体の形成法と、電極に電圧を印加することによりビームが変位する静電アクチュエータを提供する。

Claim (excerpt)：

基板と、支持部と、少なくとも1つ以上の電極を有するビームからなるマイクロ構造体において、該支持部により前記基板と空隙を介してビームが上面より支持され、前記電極の少なくとも1つは可動電極からなり、前記ビームの下面に該可動電極が形成されてなることを特徴とするマイクロ構造体。

IPC (2)：

H02N 1/00 ,  G01N 37/00