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J-GLOBAL ID：200903040773028920

偏光ビームスプリッター及びその製造方法

Inventor： 北本 達也 ,  柴野 秀史
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995151747
Publication number (International publication number)：1997005518
Application date： Jun. 19, 1995
Publication date： Jan. 10, 1997
Summary：

【要約】【目的】 光損失がなく、高レーザー耐久性のある偏光ビームスプリッターを提供することにある。【構成】 少なくとも、交互に積層された高屈折率層と低屈折率層からなり、充填率が0.8以上の最外層を有する多層膜を形成した基板と、前記最外層上に設けた超精密な光学面を有する基板とからなる偏光ビームスプリッター。

Claim (excerpt)：

少なくとも、交互に積層された高屈折率層と低屈折率層からなり、充填率が0.8以上の最外層を有する多層膜を形成した基板と、前記最外層上に設けた超精密な光学面を有する基板とからなる偏光ビームスプリッター。