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J-GLOBAL ID：200903040832454386

フッ化物スパッタリングターゲット及びその製造方法

Inventor： 入間田 修一 ,  鈴木 了
Applicant, Patent owner： 株式会社日鉱マテリアルズ
Agent (1)： 小越 勇 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001268217
Publication number (International publication number)：2003073818
Application date： Sep. 05, 2001
Publication date： Mar. 12, 2003
Summary：

【要約】【課題】 成膜方法として大面積の成膜が可能であるスパッタリングを使用することができるフッ化物スパッタリングターゲットを提供するものであり、さらに該ターゲットの密度を上げることでパーティクルの発生を抑え、かつ目的品質の膜を得ることができるターゲット及びその製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 Al,Ba,Ca,Gd,La,Li,Mg,Pb,Yの群から選択した少なくとも1種の元素のフッ化物からなることを特徴とするスパッタリングターゲット。

Claim (excerpt)：

Al,Ba,Ca,Gd,La,Li,Mg,Pb,Yの群から選択した少なくとも1種の元素のフッ化物からなることを特徴とするスパッタリングターゲット。

IPC (11)：

C23C 14/34 ,  C01B 9/08 ,  C01D 3/02 ,  C01F 5/28 ,  C01F 7/00 ,  C01F 11/22 ,  C01F 17/00 ,  C01G 15/00 ,  C04B 35/553 ,  G02B 1/11 ,  G02B 5/20

FI (11)：

C23C 14/34 A ,  C01B 9/08 ,  C01D 3/02 ,  C01F 5/28 ,  C01F 7/00 Z ,  C01F 11/22 ,  C01F 17/00 D ,  C01G 15/00 D ,  G02B 5/20 ,  C04B 35/00 U ,  G02B 1/10 A

F-Term (20)：

2H048AA07 ,  2H048AA09 ,  2K009AA02 ,  2K009CC06 ,  2K009DD04 ,  4G030AA58 ,  4G030AA59 ,  4G030BA01 ,  4G030GA29 ,  4G076AA05 ,  4G076AB04 ,  4G076AC03 ,  4G076BA38 ,  4K029BA42 ,  4K029BC05 ,  4K029BC07 ,  4K029BD01 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09