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J-GLOBAL ID：200903040866391367

光導波路の製造方法

Inventor： 大平 健太郎 ,  樫村 誠一
Applicant, Patent owner： 日立電線株式会社
Agent (1)： 櫛渕 昌之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001047009
Publication number (International publication number)：2002250831
Application date： Feb. 22, 2001
Publication date： Sep. 06, 2002
Summary：

【要約】【課題】 コア間におけるギャップへの埋め込み不良の発生を抑制することができる光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】 基板1上にコア6を形成する工程と、このコア6を覆うようにクラッド層7を形成する工程とを有する光導波路の製造方法において、クラッド層7を形成した後に真空中で熱処理を行う工程を備えた。

Claim (excerpt)：

基板上にコアを形成する工程と、このコアを覆うようにクラッド層を形成する工程とを有する光導波路の製造方法において、上記クラッド層を形成した後に真空中で熱処理を行う工程を備えたことを特徴とする光導波路の製造方法。

F-Term (9)：

2H047KA04 ,  2H047PA03 ,  2H047PA04 ,  2H047PA05 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047QA04 ,  2H047QA07 ,  2H047TA11