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J-GLOBAL ID：200903040880963535

投影露光装置

Inventor： 谷口 哲夫
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 川北 喜十郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995196005
Publication number (International publication number)：1997022860
Application date： Jul. 07, 1995
Publication date： Jan. 21, 1997
Summary：

【要約】【目的】 レチクルホルダ上でのレチクルの有無及びレチクルステージRSTの位置変化により投影光学系の周囲の温度が変化しても、安定した結像特性及び高い重ね合わせ精度が得られる走査型投影露光装置を提供する【構成】 温度調節された空気流201を装置上方から流動させて温度安定化されている走査型投影露光装置である。マスクRのマスクホルダRH上での有無を検知する判別器7と、マスクの走査方向位置を検出する干渉計6と、検出されたマスク位置及びマスクの有無に基づいて投影光学系の結像特性の変化量を求める変動計算機20とを備える。マスクのマスクホルダRH上での有無による結像特性の変化等を予め測定して記憶しておく。記憶されていた変化特性と変動計算機20の計算結果に基づき、露光しながら投影光学系PLのレンズエレメント25を光軸方向に移動して倍率を補正する。

Claim (excerpt)：

マスクステージ上に載置されたマスクを照明光で照明して前記マスクのパターンの像を投影光学系を介して感光基板上に結像する投影露光装置において、マスクステージ上のマスクの有無を判別する手段と、前記判別されたマスクの有無に基づいて投影光学系の結像特性の変化量を求める演算手段と、前記演算手段の演算結果に基づいて前記投影光学系の結像特性を補正する補正手段を備えたことを特徴とする上記投影露光装置。