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J-GLOBAL ID:200903040915369100

粒径分布測定装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 藤本 英夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001344430
Publication number (International publication number):2003149123
Application date: Nov. 09, 2001
Publication date: May. 21, 2003
Summary:
【要約】【課題】 感度校正のために様々な粒子径の標準粒子を用いることができる粒径分布測定装置を提供する。【解決手段】 測定対象試料Sに光La,Lbを照射することによって生ずる散乱光Lsを所定の角度毎に検出する複数の検出器7を備え、各検出器7からの出力に基づいて、測定対象試料Sの粒径分布を求める粒径分布測定装置1であって、所定の粒径を有する複数の標準粒子Sa1 ,Sa2 ,...について各検出器7からの出力として得られるべき値を基準値ライブラリDaとして記憶部10に記憶し、その基準値ライブラリDaに記憶した標準粒子Sa1 ,Sa2 ,...の中から選択された標準粒子Sa1 〜Sa5 により装置校正を行なう。
Claim (excerpt):
測定対象試料に光を照射することによって生ずる回折光または散乱光を所定の角度毎に検出する複数の検出器を備え、各検出器からの出力に基づいて、測定対象試料の粒径分布を求める粒径分布測定装置であって、所定の粒径を有する複数の標準粒子について各検出器からの出力として得られるべき値を基準値として記憶部に記憶し、その基準値を記憶した標準粒子の中から選択された標準粒子により装置校正を行なうことを特徴とする粒径分布測定装置。
IPC (2):
G01N 15/02 ,  G01N 15/00
FI (2):
G01N 15/02 A ,  G01N 15/00 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭61-014543

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