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J-GLOBAL ID：200903040917646004

薄膜の製造方法

Inventor： 佐治 哲夫
Applicant, Patent owner： 佐治 哲夫
Agent (1)： 西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994028698
Publication number (International publication number)：1995238382
Application date： Feb. 28, 1994
Publication date： Sep. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】 有機溶剤、電解装置、真空装置などを用いずに、金属基板の侵せきという極めて容易な方法による機能材料の薄膜、及びその製造方法を提供する。【構成】 疎水性の機能性材料を、疎水性部分に芳香族アゾ残基を含有する界面活性剤を用いて水中に分散し、侵せきした金属基板により界面活性剤を還元して分散状態を壊し、金属基板の表面に機能材料の薄膜を製造する。

Claim (excerpt)：

芳香族アゾ化合物残基を含有するアゾ界面活性剤により疎水性物質を水中へ可溶化または微粒子として分散した後に、アゾ界面活性剤の酸化還元電位より卑な金属を浸せきしてアゾ界面活性剤を還元し、金属表面近傍において、疎水性物質の可溶化状態または分散状態を破壊して疎水性物質を金属表面へ付着させることを特徴とする薄膜の製造方法。

IPC (7)：

C23C 18/16 ,  B05D 5/08 ,  B05D 7/14 ,  B05D 7/14 101 ,  B05D 7/24 301 ,  B05D 7/24 ,  B05D 7/24 303