バイナリーオプティクス及びそれを用いた集光光学系並びにレーザ加工装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大島陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995305090
Publication number (International publication number)：1997061610
Application date： Oct. 30, 1995
Publication date： Mar. 07, 1997
Summary：

【要約】【課題】ビーム形状が円形で、強度分布が山型の、または高次モードのレーザ光からビーム形状が矩形、線状図形などの所望の形状をなし、強度分布が均一なレーザビームを効率良く得ることが可能なバイナリーオプティクス、または集光光学系を提供すること及びこれらを用いて効果的なレーザ加工を可能とするレーザ加工装置を提供する。【解決手段】素子内の各位置に於ける回折格子の配列方向とピッチとが、入射光の形状及び強度分布と、変換したい出射光の形状及び強度分布とに対応させて設計されたバイナリーオプティクス及びこれを用いた光学系により、所望の断面形状を有するレーザビームを容易に、かつエネルギーの損失なく変換することができることから、レーザ加工プロセスを有利にすると共に、効率の高い加工が可能になる。更に、かかる構成のレーザ装置は、レーザ加工プロセスを有利にすると共に、効率の高い加工が可能になる。

Claim (excerpt)：

回折格子よりなるバイナリーオプティクスに於て、当該バイナリーオプティクス上の各位置に於ける回折格子の配列方向とピッチとが、入射光の形状及び強度分布と、変換したい出射光の形状及び強度分布とに対応させて設計されていることを特徴とするバイナリーオプティクス。

IPC (2)：

G02B 5/18 , B23K 26/06

FI (3)：

G02B 5/18 , B23K 26/06 E , B23K 26/06 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (20)

特開平4-243213
特開平2-117791
特開平3-210521

Show all

Return to Previous Page