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J-GLOBAL ID：200903040934008038

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 白川 浩司 ,  佐藤 健一郎 ,  児玉 邦彦 ,  河辺 保雅 ,  坂口 新治
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994267491
Publication number (International publication number)：1996129255
Application date： Oct. 31, 1994
Publication date： May. 21, 1996
Summary：

【要約】【目的】 高解像力でかつ解像力の膜厚依存性が小さい、現像ラチチュードが広く、現像残渣が発生しにくい、経時による感光剤の析出やミクロゲルの発生がない(パーティクルの増加のない)極めて優れた保存安定性を有するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、及び直鎖状に芳香環を4〜5つ有しそれぞれの芳香環に水酸基を1個有する化合物で且つ分子内にシクロアルキル基が存在するポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(および/または-4-)スルフォン酸エステルを含有する。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂および下記一般式(I)で表わされるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(および/または-4-)スルフォン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】ここで、R1 〜R11;同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基、もしくはシクロアルキル基を表し、少なくとも一つはシクロアルキル基である。A;【化2】R12;水素原子、アルキル基、m;2または3を表す。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-185327   Applicant：日本ゼオン株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-338926   Applicant：日本ゼオン株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-312269   Applicant：住友化学工業株式会社