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J-GLOBAL ID：200903040943737379

皮膚化粧料

Inventor： 棚橋 昌則 ,  松本 泰伸
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 有賀 三幸 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994280254
Publication number (International publication number)：1996143417
Application date： Nov. 15, 1994
Publication date： Jun. 04, 1996
Summary：

【要約】【構成】 (A)式(1);R1-(CH2)n-COOH ・・・・(1)(R1 はOHで置換されたC1〜C8のアルキル基、nは1〜18)で表わされるカルボン酸、並びにその塩、エステル誘導体及びアミド誘導体から選ばれる化合物、及び(B)式(2)【化1】(R2 はC10〜C26の炭化水素基、R3 はC9〜C25の炭化水素基、Y及びZはH又は-(CH2)n-OH(nは1〜3)、Aは単結合又は-O-CH2-)で表わされるアミド誘導体を含有する皮膚化粧料。【効果】 脂性の肌荒れの改善効果に優れ、肌のキメを整えることができ、安全性も良好である。

Claim (excerpt)：

次の成分(A)及び(B):(A)一般式(1);R1-(CH2)n-COOH ・・・・(1)(式中、R1 は1又は2以上のヒドロキシル基で置換された炭素数1〜8の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、nは1〜18の数を示す)で表わされる総炭素数6〜20のカルボン酸、並びにその塩、エステル誘導体及びアミド誘導体から選ばれる化合物、(B)一般式(2)【化1】〔式中、R2 は炭素数10〜26の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素基を示し、R3 は炭素数9〜25の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素基を示し、Y及びZはそれぞれ水素原子又は-(CH2)n-OH(nは1〜3の数を示す)を示し、Aは単結合又は-O-CH2-(但し、酸素原子はR2 と結合する)を示す〕で表わされるアミド誘導体を含有する皮膚化粧料。

IPC (5)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/48 ,  C07C 59/01 ,  C07C233/18 ,  C07C233/20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 化粧品組成物の使用
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-183049   Applicant：ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ
• 皮脂分泌抑制剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-265252   Applicant：花王株式会社
• 特開昭63-192703