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J-GLOBAL ID：200903040945251198
処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
松隈 秀盛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993257178
Publication number (International publication number)：1995115081
Application date： Oct. 14, 1993
Publication date： May. 02, 1995
Summary：
【要約】【目的】 自動洗浄装置のスピン乾燥においてウェーハを固定して回転させるチャックピンの部分での水滴残りを無くす。【構成】 自動洗浄装置において、スピン乾燥でウェーハエッジ部を固定するチャックピン45〔45A,45B〕の中央部に水滴残りを逃すための透孔57を設けて構成する。
Claim (excerpt)：
回転によりウェーハ表面の処理液を除去する処理装置において、上記ウェーハの周辺端部に接するウェーハ保持部に上記処理液を逃すための除液部が設けられて成ることを特徴とする処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/304 351
, H01L 21/304 341
, H01L 21/68
Cited by examiner (6)
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