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J-GLOBAL ID:200903040957876150
研磨用組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996325614
Publication number (International publication number):1998172934
Application date: Dec. 05, 1996
Publication date: Jun. 26, 1998
Summary:
【要約】【課題】 被研磨面を研磨する速度が大きく、リサイクル使用した場合、使用回数を重ねても被研磨面を研磨する速度の低下が小さく、加工プロセスを安定化することができる研磨用組成物の提供。【解決手段】 フュームドシリカ、塩基性カリウム化合物および水を含んでなる研磨用組成物であって、その電気伝導率が100〜5500μS/cmであることを特徴とする研磨用組成物。
Claim (excerpt):
フュームドシリカ、塩基性カリウム化合物および水を含んでなる研磨用組成物であって、その電気伝導率が100〜5500μS/cmであることを特徴とする研磨用組成物。
IPC (5):
H01L 21/304 321
, B24B 37/00
, C01B 33/18
, C09K 3/14 550
, C09K 3/14
FI (5):
H01L 21/304 321 P
, B24B 37/00 H
, C01B 33/18 Z
, C09K 3/14 550 D
, C09K 3/14 550 Z
Patent cited by the Patent:
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